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锑化铬靶材 CrSb

锑化物

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锑化铬靶材，CrSb，纯度99.95%，交变磁体和自旋电子学与半金属材料
氧化铟镓锌靶材 IGZO

陶瓷化合物与掺杂靶材定制

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氧化铟镓锌靶材，99.99%，主流配比In:Ga:Zn=1:1:1 at%与2:2:1 at%，其它配比可定制，适用于各类溅射工艺
钨硅合金靶材 W:Si=x:y wt%

合金靶材及定制

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钨硅合金靶材，W:Si=x:y wt%，99.9%，定制配比
氧化锂靶材 Li2O

氧化物

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Li2O，99.99%，各种规格可定制
钴锰硅合金靶材 Co:Mn:Si=x:y:z wt%

合金靶材及定制

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钴锰硅合金靶材，Co:Mn:Si=x:y:z wt%，99.5%，定制配比
氧化铟镓靶材 IGO

陶瓷化合物与掺杂靶材定制

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氧化铟镓靶材，InGaO，99.99%，可定制各种配比，追求高载流子迁移率选取低镓含量，追求电压应用和热稳定性选取高镓含量，适用于各类溅射工艺
氧化镍靶材

陶瓷化合物与掺杂靶材定制

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化学式：NiO，纯度：99.9%
氧化钴铁靶材 CoFe2O4

陶瓷化合物与掺杂靶材定制

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 氧化钴铁靶材，CoFe2O4，99.9%，支持规格定制，适用于各种溅射镀膜，应用于磁存储、微波器件及自旋电子学领域。
三氧化二钒靶材

氧化物

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V2O3，99.9%
钨酸锆靶材

其它化合物

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ZrW2O8，99.9%，氧化锆和氧化钨粉末经物相合成加烧结制靶，二次烧结制备
银锑硫靶材

陶瓷化合物与掺杂靶材定制

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AgxSbySz，99.99%，定制规格和配比
钼钛合金靶材

合金靶材及定制

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Mo:Ti=x:y wt%，99.9%，定制规格、配比
铁酸铋靶材 BiFeO3

其它化合物

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BiFeO3，99.99%
钒酸铋靶材 BiVO4

其它化合物

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BiVO4，99.9%
钒酸铋掺镱铒靶材 (Bi0.94Yb0.1Er0.01)VO4

其它化合物

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(Bi0.94Yb0.1Er0.01)VO4，99.9%
高纯铬靶材 Cr

铬 Cr

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Cr，99.95%
氧化铬靶材 Cr2O3

氧化物

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Cr2O3，99.9%-99.99%
高纯锰靶材 Mn

锰 Mn

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Mn，99.7%
二氧化锰靶材 MnO2

氧化物

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MnO2，99.99%
锰铜合金靶材 Mn:Cu=(100-x):x wt%

合金靶材及定制

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Mn:Cu=(100-x):x wt%，99.5%
锰镓合金靶材 Mn:Ga=(100-x):x wt%

合金靶材及定制

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Mn:Ga=(100-x):x wt%，99.5%-99.9%